Fig.1 L/S = 7/12 (µm)
L/S = 20/20 (µm)
※ペースト:サカタインクス様ご提供
使用するCuペーストは、銅のナノ粒子を主成分とし、弊社グラビアオフセット印刷機での印刷特性に適合するよう調整されたものです。
従来のAgペーストと比べてイオンマイグレーションが発生しにくく、狭ピッチな高電界領域において優れた信頼性が期待されます。
以下の条件下で耐マイグレーション試験を実施した結果、240時間経過後もデンドライトの発生が認められませんでした。
◆耐マイグレーション試験条件
・温度:85℃±2℃
・湿度:85%RH±3%
・試験時間:240h
・印加・測定電圧:5V(42か所)
・基準絶縁抵抗値:×10⁷Ω以上
測定サンプル外観
測定時絶縁抵抗グラフ(一部)
測定サンプル外観
今後期待される分野
近年、持続可能性やコスト削減の観点から、銀に代わる導電材料として銅の活用が注目されています。
銅は比較的安価で資源的制約も少なく、再生可能エネルギー機器や次世代ディスプレイ、半導体実装分野など
今後さらなる応用拡大が期待されています。