NEO-FLマスク
従来のフラット加工スクリーンは、その平滑性の高さから、印刷材料に対しての密着性も高くなり、版離れが悪くなる場合がありました。スクリーン版と印刷材料の密着度が高いと、急激な版離れを起こし、ニジミなどの原因になってしまいます。
当社のNEOフラット加工は、印刷するエッジ部分はフラット加工、その他の部分はエンボス加工という2種類の表面処理を同一版の中に混在させる事で、印刷性を損なわず、版離れ改善を可能にしました。
当社のNEOフラット加工は、印刷するエッジ部分はフラット加工、その他の部分はエンボス加工という2種類の表面処理を同一版の中に混在させる事で、印刷性を損なわず、版離れ改善を可能にしました。
- 版離れの改善により印刷品質の向上が期待できます。
- フラット部分とエンボス部分を任意に設定できます。
- 直間フィルムに比べて耐久性が高く、ロングライフです。
- スマートフォン・フラットパネルディスプレーなどの額縁印刷
- ガラス・鏡面材料への印刷
- 高粘度・高チクソインクの印刷
空気の逃げ道がないため
材料と版が密着して版離れが悪い
従来のフラットマスク
エンボス部が空気の逃げ道を確保して版離れを改善。
静電気によるインキの飛散、材料と版の吸着を防ぐ。
NEO-FLマスク